功能規格
作(zuo)為一種精密干式等離子(zi)體清洗系(xi)統,它在(zai)半導體封(feng)裝過(guo)程中有效去除污染(ran)物,提升材料(liao)表面(mian)性能,并改善附著力。
兼容各種生產線,實現全自動化等離(li)子體清洗。
產品(pin)特點
標準化(hua)的(de)等離子體清潔過(guo)程(cheng)不會對(dui)產(chan)品表面造成損(sun)傷,且清潔過(guo)程(cheng)
在真空環境中選擇,清潔表面不會受到灰(hui)塵、氧化(hua)和其(qi)他二次污(wu)染;
與(yu)傳統(tong)的(de)獨立系統(tong)相比,在線等離子(zi)體清(qing)潔設備(bei)提供了更高的(de)自(zi)動化(hua)、效(xiao)率、清(qing)潔度和(he)適應性,使(shi)其成為大規模全自(zi)動生產的(de)理想(xiang)選擇。
產品尺寸
技術參數
項目 | 輸入:PL-1200 |
維度 | 1000*1400*1650毫米(mi) |
產品清潔(jie)范(fan)圍 | 50*50毫米/500*500毫米 |
輸送(song)機高度(du) | 900±20毫米 |
控制(zhi)系統 | PLC+觸摸屏 |
噴(pen)嘴數(shu)量 | 1-4噴槍 |
輸(shu)送負載 | ≤15千克 |
應(ying)用程序 | 電子、半(ban)導體(ti)、光(guang)學、汽車、醫療設(she)備(bei)、包裝等行業 |
控制模式(shi) | PLC自動(dong)控(kong)制,支持遠程監控(kong)和(he)控(kong)制,具有數據記錄和(he)存檔功能 |
氣體類型 | 大(da)氣層,氧(yang)氣,全氟化碳(tan),氬(ya)(可選) |
安全保護功能 | 配備多種安全機制,如過載保護、異常氣流保護、 |
系(xi)統穩(wen)定(ding)性(xing) | 高穩定性設計,連續工作時(shi)間(jian)長達24小(xiao)時(shi),具備抗干擾和耐(nai)高溫性能(neng) |
工作壓力 | 0.1-0.5 MPa(可調,適(shi)用于不(bu)同工作(zuo)環境) |
操作模式 | 人機界面(HMI)計算機操作,配備實時監控 |
清潔速度 | 5米(mi)/分(fen)鐘 - 30米(mi)/分(fen)鐘,可根據清潔強(qiang)度(du)和材料(liao)類型進(jin)行(xing)調整 |
清潔效果 | 它(ta)可以有效去(qu)除油污、灰塵、氧化層(ceng)、顆粒等,增強表面附著力,提高(gao)后續涂層(ceng)和粘結效果(guo)。 |
工作溫度 | 10-30℃ |
產品功能(neng)
1. 核心技術
大氣(qi)壓力等離子體清洗:無需真空環境,節(jie)能(neng)。
多氣體(ti)兼容性:支(zhi)持氧氣、氬氣和氮氣等工藝氣體(ti)。
2. 自動化性能
輸(shu)送帶集成(cheng):可調速(su)度(du)(0.5-5米/分鐘),適用于不同生產(chan)線節奏。
自(zi)動觸發:光電傳感器控制啟動和(he)停止,減(jian)少手動干(gan)預。
3. 質量(liang)控(kong)制
均(jun)勻處理:多噴嘴陣列設計確保表面處理的一致性。
實時(shi)監(jian)測:內置(zhi)電(dian)導(dao)率/溫(wen)度傳感器,異常(chang)情況自(zi)動報警(jing)。
4. 安全和(he)維(wei)護(hu)
防靜電(dian)設計(ji):防止對敏感(gan)組(zu)件造(zao)成損壞(huai)。
模塊化結構:噴嘴或(huo)電極的快速更換,方便維護。
應用領域
1. 電子行業(ye)
PCB 制造(zao):清除(chu)鉆孔(kong)殘渣并增強金屬化孔(kong)的附(fu)著(zhu)力。
半導體(ti)封裝:晶圓表面活化以提高(gao)引(yin)線鍵(jian)合可靠性。
2. 醫療護(hu)理和包裝
醫療導管/植入物:滅(mie)菌前(qian)表面處(chu)理以增強生物相容性。
食品包裝:PE/PP薄膜處理,優(you)化(hua)油墨印刷效果。
3. 汽(qi)車和(he)航(hang)空
動力鋰電池:電極清理以改善涂層均勻性(xing)。
復合材(cai)料:碳纖(xian)維粘(zhan)接前的等離子體活(huo)化(hua)。
5. 科(ke)學(xue)研究與新(xin)興領域
柔(rou)性(xing)電(dian)子:ITO玻璃(li)/膜清潔。
納(na)米(mi)材料:基底表面(mian)能調控。
產品常見問題
問(wen)1:與傳統溶劑清洗(xi)相比,等離子體清洗(xi)有哪些優勢?
A1: 氦等(deng)(deng)離子體(ti)清洗不需要化學(xue)試劑,不留污染殘渣(zha),可以處理(li)微米級的毛孔(kong),適用于醫療和半導體(ti)等(deng)(deng)高精度行業。
Q2: 設備需要特殊(shu)的(de)氣體(ti)供(gong)應嗎?
A2: 標準配置(zhi)支持壓縮空氣(qi)。可(ke)選(xuan)連接(jie)氧氣(qi)/氬氣(qi)瓶。氣(qi)體種(zhong)類可(ke)根據材料要(yao)求進行選(xuan)擇。
Q3: 如何處理不同(tong)寬(kuan)度的材料?
A3:噴嘴間距可(ke)調(100-600mm),或者可(ke)以(yi)定制超寬版(ban)本(更(geng)大1200mm)。
Q4: 設備消(xiao)耗多少能量?
A4: 平均功率(lv)為3-5千(qian)瓦,與真空等離子設備相(xiang)比,節省超過60%的(de)能(neng)源。
Q5: 支(zhi)持非連續(xu)生產嗎?
A5:它(ta)可以切換到手(shou)動模式(shi)進行單件加工(可選工作(zuo)件定位平臺)。
產(chan)品樣本